英國愛德華STP1003 、STP1003C DN200CF 進氣口

概述

Edwards STP1003 是新型的渦輪分子泵，可用于良好的半導體應用。Edwards 的轉子技術可實現的性能，大的制程靈活性。這種泵已經由半導體和磁介質行業的大型設備制造商投入使用，并得到了認可。英國愛德華STP1003 渦輪分子真空泵維修

應用

• 金屬（鋁）、鎢和電介質（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
• 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
• 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
• 濺射
• 離子注入源，射束線泵送端點站
• MBE
• 擴散
• 光致抗蝕劑脫模
• 晶體/晶膜生長
• 晶片檢查
• 負載鎖真空腔
• 科學儀器：表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
• 高能物理：射束線、加速器
• 放射線應用：融合系統、回旋

  功能和優勢

  良好的轉子技術  

• 大的制程靈活性

• 無油

• 低振動

• 高度可靠

• 免維護

• 可用于嚴苛制程（C 型）

• 使用壽命延長

• 良好的控制器設計  

• 自動調整

• 自行診斷功能

• 直流電機驅動

• 無電池運行

• 緊湊型設計  

• 占地面積小

• 半機架控制器英國愛德華STP1003 渦輪分子真空泵維修

  技術數據

  入口法蘭	ISO200F
  出口	KF40
  吹掃口	KF10
  抽速
  N2	1000 ls-1
  H2	800 ls-1
  壓縮比
  N2	>108
  H2	>105
  加熱時的極限壓力（VG/ISO 法蘭）	10-7 Pa
  	(10-9 Torr)
  加熱時的極限壓力（ICF 法蘭）	10-8 Pa
  	(10-10 Torr)
  大連續出口壓力	13 Pa
  	(0.1 Torr)
  額定速度	35000 rpm
  啟動時間	6 分鐘
  高入口法蘭溫度	120 °C
  輸入電壓	100 至 120 (± 10) V 交流或
  	至 240 (± 10) V 交流
  啟動時的功耗	0.8 kVA
  泵重量	31 kg
  控制器重量	9 kg

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